“第二个，就是资金。我准备把全彩科技的设备采购权利，收回到光电设备手里。通过全彩科技的设备采购款，来为晶圆产业输血。”
随着cd产业已经逐步走上正轨，产线的逐步量产，慢慢的，它就有了一定的盈利能力。但比盈利能力更重要的则是它的融资能力。
由于全彩科技的独有技术，吸引投资人比较方便。像2，3，4，三条产线，主要资金都是外部投资人的资金。那么从这里揩油就是最好的办法。
这个思路有点像当初的智商税。
随着tftcd市场的打开，tftcd的产能，也会迎来一个全面爆发的过程。
在原来的历史上，到94年底，世界上兴建了21条tftcd产线，它的产能总数，高达每个月63万片。其中新增的产能，是54万片。
这个市场空白的绝大多数，都需要全彩科技去填补。以现在的2号线为参照，哪怕其良率为100，双班制生产，也需要54条新线而每条线的设备采购款，高达15亿人民币。
由于cd产能爆发引起的半导体设备采购款项，就高达了80亿人民币这还是不考虑2代线的造价更高等因素的保守估计。
晶圆产业的投资，就要着落在这里了。
“一号工程，有没有具体目标啊”
“初步的思路，是在9394年间，建设一个2微米的小型晶圆厂，然后通过技术进步，逐步升级到1微米进程。”
叶静经过几个月的辛苦工作，最后选定了ee路线作为光电下一步技术演进方向。
多图案技术在这个时代，其难度比纳米时代，小得不是一点半点。小数点后少了两个零的精度，导致在纳米时代，大家最头痛的衍射，对准等问题，都不是大问题。
ee与sa相比，各有千秋。ee的主要弊端，是它有分图片校准的问题。
sa是一种自校准技术，所以在初期，它的优势还是非常明显的。但它只适用于对称图形，适用面很窄。
它的优点和缺点都非常明显，这也是te 在14n先拔头筹，但在 10n迟迟无法通关的主要原因。相信te 最后也会走到ee这条道路上。
晶圆厂的投资，也跟产能，晶圆尺寸有很大关系。由于这个晶圆厂的核心目的，就是验证多图案技术技术在实际生产线上的应用。没有必要搞得过于庞大。这条产线的设计技术目标，只有2微米，3寸晶圆，月产万片而已。
至于这条产线的工艺设计，成永兴就不准插手了，毕竟这种级别的晶圆，国内的技术已经完全成熟。
“然后在9596年，再建一条正式线。它的技术指标，瞄准的是05微米。”
其实在成永兴心中，真正瞄准的是025035微米。
96年又是一个关键的时间点。
随着台海危机，中美关系迅速恶化。瓦森纳协定拉开了对中国长达数十年技术压制的序幕。可以想象吗中国实际上是跟伊朗和朝鲜，一个待遇的
如果光电系的晶圆产业，能够在9596实现对世界半导体产业的彻底反超，谁对谁封锁技术还不一定呢。
多重图案技术的保密，相比odf还是容易一些，因为它没有新的设备。至少，它不会被一张照片给泄密。
光电晶圆，只要保密工作做得好，以高于世界水平一代，到两代的芯片，可以把其它国家的晶圆产业升级，全部打停
一如昨天的ed，今天的